專利權侵權的特點是什么
侵犯專利權，包括不正當地使用專利權人的專利或者對專利權進行了轉讓，制造侵權產品或者銷毀具有侵權嫌疑的專利文件，擅自制造假冒他人專利產品，以欺騙手段獲得報酬或者取得許可使用專利權人的專利證等侵權行為。
不正當地使用專利權是指不以營利為目的，對其所生產的產品直接或間接地使用專利權。不正當地使用專利一般包括不限于以下幾種：一是未經專利權人許可而使用；六是未經專利權人允許而使用；七是未經專利權人同意而使用；八是在其產品或服務中使用；九是未經專利權人允許而使用；十是侵犯專利權。不正當使用一般按照情節嚴重程度的不同被歸為三類:
(1)未經專利權人許可
(2)未經專利權人允許
(3)侵犯專利權人在被控侵權產品生產過程中獨創性應用專利技術
(4)損害專利權人利益
(5)擾亂正常技術秩序
(6)以不正當手段攫取經濟利益。
不正當使用要達到以下要求：一是必須對專利權人擁有的一項或多項具有獨創性使用事實具有充分認知；二是必須由經專利權人允許或經專利權人明確許可且獲得專利權人許可使用該發明創造才能發生；三是必須是合法行為。
具體而言:必須符合《中華人民共和國專利法》第十二條規定;必須是“使用”;必須是“制造”;必須有合法來源。
知識產權客體是指發明創造在申請日以前，為公眾所知曉或知悉的某種有形物質，包括發明創造本身，和其他具有獨創性的有形物質。這一客體是知識產權最基本的特征之一，也是知識產權制度實行的根本前提。
發明發明是指技術方案，包括技術內容和技術方案，由不同的技術方案組成。技術方案與技術特征都是可以區別于一般技術手段或者設計方案而獲得的實質性權利。技術方案指對產品、方法或者其改進所提出地新的技術方案，通常指用于產品而不是方法和工藝中新出現的技術成果。
一般情況下，技術方案不能直接轉讓給他人使用或者制造。專利申請須以創造性為要件，根據我國專利法第三條規定，發明是指對產品或者其改進提出具有新穎性、創造性并能實現功能，并且該產品在規定期限內未被實施一次以上的新技術。
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